Studi perbandingan hexamethyldisiloxane dan octamethylclotetrasiloxane sebagai prekursor untuk film silikon dioksida

Penelitian ini bertujuan untuk menyelidiki dan membandingkan kemampuan dua prekursor yang berbeda, hexamethyldisiloxane dan octamethylclotetrasiloxane, dalam memproduksi film silikon dioksida. Hasil percobaan menunjukkan bahwa kedua prekursor mampu menghasilkan film silikon dioksida yang berkualitas tinggi, seragam, tetapi ada sedikit perbedaan dalam karakteristik mereka.

Hexamethyldisiloxane, atau HMDSO, adalah prekursor fase gas yang telah banyak digunakan dalam produksi film silikon dioksida untuk berbagai aplikasi industri. Prekursor ini ditemukan menghasilkan film dengan tingkat deposisi yang tinggi dan homogenitas yang baik. Di sisi lain, octamethylcyclotetrasiloxane, atau omcts, adalah prekursor cair yang lebih jarang digunakan dalam industri. Namun, OMCTS terbukti menghasilkan film dengan kekasaran dan ketebalan yang lebih rendah dibandingkan dengan HMDSO.

Studi ini juga mengungkapkan bahwa pilihan prekursor dapat memiliki efek pada sifat fisik dan kimia film silikon dioksida. Film -film HMDSO memamerkan indeks bias yang lebih tinggi dan kepadatan yang lebih rendah dibandingkan dengan film OMCTS. Selain itu, komposisi kimia permukaan film sedikit berbeda, dengan OMCT menghasilkan lebih banyak gugus hidroksil pada permukaan film.

Secara keseluruhan, penelitian ini menyoroti pentingnya memilih prekursor yang sesuai untuk aplikasi tertentu. Sementara HMDSO dan OMCT telah menunjukkan kemanjurannya dalam memproduksi film silikon dioksida, sedikit perbedaan dalam karakteristik mereka mungkin memiliki implikasi dalam aplikasi tertentu. Meskipun demikian, temuan penelitian ini memberikan pandangan positif untuk penggunaan kedua prekursor dalam produksi film silikon dioksida berkualitas tinggi.